Servicio de micro y nanofabricación

Litografía de ultra-alta resolución por haz de electrones:
Resolución típica de 50 nm.

Equipo: Basada en SEM (LEO 145). Cátodo caliente de W o LaB6, Energía del haz: 25 KeVs.
Generador de estructuras: Elphy-Plus (2 MHz) con software para alineamiento con estructuras previas y para corrección de proximidad de estructuras. Editor gráfico de estructuras GDSII.
Portamuestras dotado de interferometría LASER que permite empalmar campos de escritura de 100 x 100 μm2 con un error < 60 nm. Área máxima de trabajo: 4x4 cm2


Litografía UV de Alta Resolución:
Resolución típica de 1 μm.

Equipo: MA6-Karl Suss (UV400).
Características: Capacidad de litografía por la cara posterior del sustrato y alineamiento con la cara superior (litografía de doble cara). Muy útil en aplicaciones del tipo MEMS

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