INSTITUTO DE MICROELECTRÓNICA DE MADRID

Departamento de Fabricación y Caracterización de Nanoestructuras

        - Espectrómetro Raman.
        - Elipsómetro espectral.
        - Luminiscencia
        - Reflectancias de modulación (piezoreflectancia, electroreflectancia y fotoreflectancia).
        - Difractrómetro de Rayos-X de alta resolución.
        - Equipo de epitaxia de haces moleculares (diseño propio).
        - Sistema de deposición por pulverización catódica en ultra alto vacío (diseño propio).
        - Microscopio de fuerzas.
        - Microscopio de fuerzas de fricción.
        - Microscopio de efecto túnel (STM) de baja corriente
        - Sistema de medida de Efecto Kerr longitudinal.
        - Medidas capacidad-tensión con barrera electrolítica
        - Medida efecto Hall a temperatura variable

Departamento de Dispositivos, Sensores y Biosensores

        - Ataque de láminas delgadas de materiales mediante haces de iones reactivos (RIBE).
        - Deposición de láminas delgadas de materiales dieléctricos (PECVD).
        - Deposición de láminas delgadas de metales por haz de electrones y evaporación térmica.
        - Microlitografía por contacto.
        - Deposición y ataque de láminas delgadas por ablación laser.
        - Microscopio electrónico de barrido con microanálisis.
        - Analizador de disoluciones por inyección de flujo (FIA).
        - Plasma de oxígeno
        - "ball-bonder"
        - Litografía por haz de electrones
        - Perfilómetro (Talystep)

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